淋洗液發生器用來電解產生高純度淋洗液等度或梯度淋洗。淋洗液發生器能避免基線漂移，增加靈敏度，提高分離度，保證色譜峰積分良好重復性。
戴安淋洗液發生器由高壓KOH發生室和低壓K+電解槽組成。KOH發生室裝有一個穿孔的Pt陰極，鉀離子電解槽裝有一個Pt陽極。KOH發生室裝通過陽離子交換膜與K+電解槽連接。離子交換連接器允許來自K+電解槽的K+通過并進入高壓KOH發生室。離子交換連接器將高壓KOH發生室與低壓K+電解槽隔開。泵驅動去離子水通過KOH發生室，在正負極之間加上直流電壓，水在正極和負極發生電解。在正極產生的H+代替電解質溶液中的K+，被置換出的K+跨過陽離子交換連接器進入KOH發生室。這些K+與在陰極產生的OH-結合生產KOH，即用于陰離子交換色譜的淋洗液。所產生的KOH溶液的濃度由加到K+電解槽和KOH發生室上的電流和通過KOH發生室的水的流速決定。因此，在一個給定的流速，地控制施加電流就能精密而在線地產生所需濃度的KOH淋洗液。施加電流和所產生的KOH濃度之間存在非常好的線性關系。
K+電解槽換成甲烷磺酸根（MSA）電解槽，陽離子交換連接器換成陰離子交換連接器，在電解槽裝入Pt陽極，發生室裝Pt陽極，即構成用于陽離子分析的淋洗液發生器，所產生的陰離子淋洗液或陽離子淋洗液的濃度與施加電流成正比，與淋洗液流速成反比，兩者所產生的淋洗液濃度可達100mmol/L。
使用 Dionex™ ICS-5000+ EG 淋洗液發生器減少基線漂移，提高穩定性，簡化離子色譜分析工作流程。將 EG 模塊添加進 ICS-5000+ 系統便可形成 Thermo Scientific™ Reagent-Free™ IC (RFIC™) 系統，該系統僅使用去離子水和簡單純化柱便可以電解方式在線生成單份或雙份淋洗液。穩健的電子設備生成高純度淋洗液和極為穩定的基線。僅添加水便可生成的淋洗液，適用于幾乎所有 IC 應用—陰離子或陽離子、毛細管或分析、等度或梯度應用。
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